カテゴリー: SISS

2024年度 SIMS研究会 17

「SIMS及びその他の表面分析法における局所分析の最前線」

開催趣旨
二次イオン質量分析法(SIMS)においては、サブ10nmレベルの集束イオンビームが実用化され、そのようなスケールでの局所分析が可能となってきています。またナノメートル以下に集束された電子ビームを用いるSEM-EDXなど他の表面分析法でも局所分析が行われます。本研究会では、新しいイオン源であるCold Ion Sourceを使い世界で最も高空間分解能のSIMS装置を開発しているTom Wirtz先生にご講演いただくとともに、表面分析法による局所分析の最新状況について大学および企業の研究者の先生方にご講演いただき、局所分析の現状と今後について考えます。
多くの皆様のご参加をお待ちしております。

開催概要

日時：2024年11月22日（金）13時30分から

会場：機械振興会館 B3-6会議室 (東京都港区芝公園3-5-8)
　　　https://www.jspmi.or.jp/kaigishitsu/index.html

開催方式：対面のみ

講演者
Tom Wirtz先生 (Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST))
“Nanoscale chemical imaging on FIB platforms using a novel magnetic sector SIMS instrument”

坂本直哉先生 (北海道大学)
”Analytical Imperatives in Space Exploration”

橋本陽一朗先生 (日立ハイテク)

講演は英語で行われます。
講演タイトルなどの情報は順次更新いたします。

参加費
無料

※参加登録のお願い
　本研究会の参加費は無料ですが、研究会会場のスペースには限りがありますので、参加登録をお願いいたします。また研究会終了後、講演者の先生方と親睦を深めるための懇親会を予定しておりますので、参加登録の際、懇親会への出欠もお知らせください（懇親会費につきましては現地にて実費の数千円をお願いする予定です）。
懇親会準備の都合上、なるべく11/15(金)までにご登録ください。

SISS-22 (Hybrid Event) will be held on 15th (Thu) and 16th (Fri) June 2023 at Kanazawa Institute of Technology, Ishikawa Japan. 
SISS-22 will cover SIMS and related techniques based on ion-solid interactions: fundamentals, instrumentation, and application in various fields, such as semiconductors, industrial materials, biological, medical, and environmental sciences.



■Multipurpose Hall: Ohgigaoka Campus, Kanazawa Institute of Technology
(K Building #6, 3rd floor in Campus map)



■Programs:  Download



■Time Table (at a glance):  Time Table



Invited Speakers  (alphabetical order )



  Jean-Paul Barnes  (Univ. Grenoble Alpes)
  Yimeng Chen  (CAMECA)
  Graham Cooke  (HIDEN ANALYTICAL)
  Alex Dexter  (NPL, UK)
  John Fletcher  (Univ. Gothenburg)
  Tae Eun Hong  (KBSI Busan Center)
  Nicholas Lockyer  (Univ. Manchester)
  Satoshi Ninomiya  (Univ. Yamanashi)
  Paul Pigram  (La Trobe University)
  Marcus Rohnke  (Justus Liebig Univ. Giessen)
  Reiko Saito  (Toshiba)
  David Scurr  (Univ. of Nottingham)
  Jun Takahashi  (Nippon Steel)
  Gustavo F. Trindade  (NPL, UK)
  Lutao Weng  (Hong Kong Univ. Sci. Technol.)



Call for papers



Deadlines for presentation proposal:
          Oral : March 31, 2023 
          Poster : April 14, 2023 => postponed May 12, 2023



In SISS-22, Poster Award (named “Karen Award”) will be designed for the most outstanding presentation of research.



■Abstract Submission:
All invited and contributed presenters are requested to write abstracts.
Please prepare a MS-Word or PDF file of your abstract (A4 page size, within 2 pages (1 page or 2 pages) and submit from below.
https://www.t.kyoto-u.ac.jp/fs/qsec/SISS/2023/abstractsubmission



[Abstract template]



Deadline for abstract submission: May 12, 2023 



Maximum Poster Size: 840mm×1180mm ～A0 format
(Poster board size: 900 mm × 2100 mm)



Registration



■Registration Form：Registration form
(In addition to the registration form above, please pay the registration fee via PayPal.)
(上記フォームの参加登録に加えて、PayPalでの参加費お支払いもお願い致します)



Please register in advance by Thursday, June 1 (extended! Registration is still open.). Due to the limited number of participants, on-site registration will not be possible on the day of the event.
Depending on the status of COVID-19, there is a possibility that the event will be held online only (to be decided at the end of April).



■Registration Fee： General 5,000JPY, Student 2,000JPY



Payments are accepted via PayPal (only). Click on “Buy Now” at the bottom of the page. SISS-22 registration fee will be credited to JVSS(日本表面真空学会).